纹理槽和蚀刻槽

生产太阳能电池板的基材是单晶或多晶的硅块。这些硅块被切割成特定尺寸的硅盘或硅片。通过湿式化学蚀刻去除表面的残缺和杂质。通过使用特殊的蚀刻剂和纹理剂优化硅片表面，减少晶体损伤并增加硅片寿命。此外，考虑到能量吸收，蚀刻和纹理工艺有一定的优势。粗糙的，优化的结构可以吸收更多的光线并提高太能电池的寿命。

根据硅片型号和所需的生产工艺可选择不同的纹理化学品。典型的碱性蚀刻剂是苛性钠和烧碱溶液。酸性蚀刻剂有硫酸，硝酸和氢氟酸。完整的步骤有中和化和残余物去除。

KOH溶液中LiquiSonic®的声速测量

应用

碱性或酸性蚀刻剂可除去在切割工艺中造成的表面损伤并纹理化硅片表面。酸性蚀刻剂，如HF或HNO₃可用在各向同性刻蚀。典型的蚀刻剂有氢氧化钠(NaOH)，氢氧化钾(KOH)和羟化四甲铵(TMAH)溶液。硅片表面纹理化对于优化电池光捕获及优化能源吸收容非常重要。

影响这些工艺的主要因素是现有槽浓度及剩余时间。由于在纹理化工艺中需要消耗及排出用于刻蚀的化学品，持续的测量浓度及温度就很必要。这能保证产品质量的稳定性，在必要的情况下，需要加入更多的蚀刻剂。
LiquiSonic^®在线分析仪能检测实时纹理槽和蚀刻槽浓度。将仪器装在现有过程控制系统中后，可自动加样。