在半导体制造中，可靠且受控的湿法工艺决定着产量、质量和可重复性。尤其是在 SC1、SC2 或 BOE（缓冲氧化物蚀刻）等工艺步骤中，必须精确保持化学浓度，因为即使是很小的偏差也会对清洗和蚀刻结果产生负面影响。凭借一款专为半导体领域设计的新型传感器，SensoTech 现推出了一种超声波解决方案，可直接在线实时监测这些浓度。
重点关注晶圆制造中的经典和改良型 SC1 与 SC2 化学液，具体包括 NH₄OH / H₂O₂ / H₂O 以及 HCl / H₂O₂ / H₂O，不仅适用于标准配方，也适用于特定工艺的稀释比例、浓度窗口和定制配方，例如添加 TMAH 的情况。基于 HF 和 NH₄F 的 BOE（或 BHF）同样如此，在这些工艺中，即便是较小的偏差也会影响蚀刻速率、选择性和工艺稳定性。这款新传感器正是为这类对化学成分高度敏感的湿法工艺而设计的。
目标用户主要是半导体制造商、湿法工作台和湿法工艺设备的运营商，以及需要确保洁净室内化学工艺稳定性的工艺、设备、集成和质量工程师。他们的日常工作受到严格工艺窗口、高质量压力、洁净室空间有限以及希望尽可能无需额外取样或人工操作来监测化学组成的需求所影响。虽然目前已有用于这些任务的在线分析解决方案，但它们通常基于更复杂的测量方法，因此在集成和运行方面要求较高。新传感器正是在这一点上切入：无需依赖延迟的实验室分析或复杂的分析技术，即可在工艺过程中直接获得相应的浓度信息。
该系统汇总可用的测量信号，补偿温度影响，并据此实时计算相关浓度信息。由此形成了一种适用于不同湿法工艺的灵活测量架构，而不会增加集成复杂性。该系统完全免维护，无需任何耗材，并可通过常见接口集成到现有自动化环境中。
该解决方案在化学浓度稳定性直接决定工艺质量和设备可用性的场景中特别重要：在 SC1 和 SC2 槽液中，它有助于可靠地遵守既定配方；在 BOE 工艺中，它有助于精确控制这种特别敏感的蚀刻介质。连续的浓度监测可提供可靠的数据基础，以便及早识别工艺偏差，更有针对性地评估槽液使用寿命，并使维护和化学品管理更好地贴合实际工艺状态。
对于湿法工艺设备运营商而言，这意味着在日常工艺控制中拥有更高的安全性：浓度变化趋势更加透明，工艺窗口得到更稳定的遵守，槽液状态变化也能更早得到评估。这有助于实现设备运行的可重复性，减少不必要的保守性换液，并提升质量保证、文档记录和持续工艺优化的水平。
