在半导体制造中，可靠且可控的湿法工艺决定着产量、质量和可重复性。尤其是在SC1、SC2或BOE（缓冲氧化物刻蚀）等工艺步骤中，必须精确保持化学浓度，因为即使是很小的偏差也可能对清洗和刻蚀结果产生负面影响。借助一款专为半导体领域设计的新型传感器，SensoTech现推出一种超声波解决方案，可直接在线实时监测这些浓度。
重点关注晶圆制造中的经典及改性SC1和SC2化学体系，即NH₄OH / H₂O₂ / H₂O以及HCl / H₂O₂ / H₂O，不仅适用于标准配方，也适用于特定工艺的稀释比例、浓度窗口和调整后的配方，例如含TMAH的配方。基于HF和NH₄F的BOE（或BHF）同样如此，在这些工艺中，即使较小的偏差也会影响刻蚀速率、选择性和工艺稳定性。这款新传感器正是针对这些化学敏感的湿法工艺而设计。
目标用户主要是半导体制造商、湿法台和湿法工艺设备的运营商，以及必须确保洁净室内化学工艺稳定性的工艺、设备、集成和质量工程师。他们的日常工作特点是工艺窗口狭窄、质量压力大、洁净室空间有限，并且需要尽可能在不增加额外取样或人工操作的情况下监测化学组成。虽然目前已有用于这些任务的在线分析解决方案，但它们通常基于更复杂的测量方法，因此在集成和运行方面要求更高。新传感器正是在这里发挥作用：无需依赖滞后的实验室分析或复杂的分析技术，即可在工艺过程中直接获得相应的浓度信息。
该系统汇总可用的测量信号，补偿温度影响，并由此实时计算相关的浓度信息。由此形成一种适用于不同湿法工艺的灵活测量架构，同时不会增加集成复杂度。该系统完全免维护，不需要耗材，并可通过常见接口集成到现有自动化环境中。
该解决方案在化学浓度稳定性直接决定工艺质量和设备可用性的场景中尤为重要：在SC1和SC2槽液中，它有助于可靠地保持既定配方；在BOE工艺中，它有助于精确控制一种特别敏感的刻蚀介质。连续的浓度监测提供了可靠的数据基础，以便及早发现工艺偏差，更有针对性地评估槽液使用寿命，并使维护和化学品管理更好地贴合实际工艺状态。
对于湿法工艺设备运营商而言，这意味着日常工艺控制更加安全：浓度变化趋势更加透明，工艺窗口得以更稳定地保持，槽液状态的变化也能更早得到评估。这有助于实现设备运行的可重复性，减少不必要的保守性换槽，并提升质量保证、文档记录和持续工艺优化。
