Benfield 工艺气体洗涤器

应用

在 Benfield 工艺中，使用热碳酸钾溶液 (K₂一氧化碳₃) 作为吸收剂。待清洁的气体在高压下（例如 2 MPa）通过 K₂一氧化碳₃ 溶液在吸收器中逆流进行。它与 CO₂ 反应并部分转化为碳酸氢钾 (KHCO₃)。在吸收器的上端，清洁的气体排出。吸收过程的温度通常在 100°C 到 110°C 之间。

通过蒸汽和压降解吸时，吸收的 CO₂ 被释放回洗涤液中。再生的 K₂一氧化碳₃ 随后被送回吸收循环。
该 LiquiSonic^® 控制器 40 可以应对洗涤液浓度的波动。当 KHCO₃浓度过高时，会产生泡沫并降低 CO₂ 的吸收行为。当 K₂一氧化碳₃ 不足时，无法保证充分吸收。

安装

这些 LiquiSonic^® 浸入式传感器 können leicht direkt in die Rohrleitung installiert werden. Eine übliche 安装stelle befindet sich in den Rohrleitungen (DN80) vom Absorber zum Desorber bzw. in dessen Rückführung. Die robuste Sensorkonstruktion und die Wahl von Sonderwerkstoffen, wie HC2000, sichern lange Prozessstandzeiten des Systems.

该 LiquiSonic^® 控制器 40 与 LiquiSonic^® 传感器 以及用于第二个物理量的测量单元连接。控制器在主菜单中显示 K 的浓度₂一氧化碳₃ - 洗涤液和KHCO₃ - 盐。

典型测量范围：
KHCO浓度范围₃: 0到25 m%
K浓度范围₂一氧化碳₃: 0到25 m%
温度范围：80到110°C

客户利益

LiquiSonic^®确保在三组分液体中进行精确的浓度测量，并持续记录数据。这实现了K的自动控制₂一氧化碳₃ - 解决方案在最大吸收或气体洗涤器最大效率范围内。

LiquiSonic^®减少耗时的实验室测量：

• 时间消耗：每天1小时

通过避免过量和不足剂量，在吸收器（K）上节省材料成本₂一氧化碳₃)和解吸器（蒸汽）。