跳至主要内容

本菲尔德工艺气体洗涤器

在清洁气流时,重点是避免洗涤液的过量或不足,以防止气体清洁不充分和材料使用过多及相关成本过高。通过在过程中直接进行连续测量,确保最佳的浓度管理。

使用LiquiSonic® 控制器40进行声速测量

应用

在本菲尔德工艺中,使用热碳酸钾溶液(K2一氧化碳3)作为吸收剂。待清洁的气体在高压(例如2 MPa)下逆流通过K2一氧化碳3 -溶液在吸收器中流动。它与CO2 反应并部分转化为碳酸氢钾(KHCO3)。在吸收器的上端,清洁的气体排出。吸收过程中的温度通常在100°C到110°C之间。

通过蒸汽和压力损失进行解吸时,吸收的CO2 重新释放到洗涤液中。再生的K2一氧化碳3 然后被送回吸收循环。
LiquiSonic® 控制器40 能够对洗涤液浓度波动做出反应。当KHCO浓度过高时3-浓度会导致泡沫形成和CO吸收性能降低2 -。当K过少时2一氧化碳3 无法保证足够的吸收。

安装

这些 LiquiSonic® 浸入式传感器 可以直接安装在管道中。一个常见的安装位置是在从吸收器到解吸器的管道(DN80)中或其回流中。坚固的传感器结构和特殊材料(如HC2000)的选择确保了系统的长时间运行。

LiquiSonic® 控制器40LiquiSonic® 传感器 以及用于第二物理量的测量单元相连。控制器在主菜单中显示K2一氧化碳3 -洗涤液和KHCO3 -盐的浓度。

典型测量范围:
KHCO浓度范围3: 0到25 m%
K的浓度范围2一氧化碳3: 0到25 m%
温度范围:80到110°C

客户利益

LiquiSonic®确保在三组分液体中进行精确的浓度测量并进行永久数据记录。因此,实现了K的自动控制2一氧化碳3 - 在气体洗涤器的最大吸收或最大效率范围内的溶液成为可能。

LiquiSonic®减少耗时的实验室测量:

  • 时间投入:每天1小时

通过避免过量和不足的剂量,可节省吸收器(K)的材料成本2一氧化碳3) 和解吸器(蒸汽)。

立即获得无义务咨询

* 必填字段

详细信息

* 必填字段

在许多工业设施中,会产生污染气体,例如在氨合成或环氧乙烷装置中。出于质量原因,必须净化富含CO2的气体。化学工业中一种著名的工艺是Benfield合成气洗涤器,其中气流中的酸性成分(例如CO2)通过洗涤液被吸收。