Benfield工艺气体洗涤器

应用

在Benfield工艺中，使用热碳酸钾溶液（K₂一氧化碳₃) 作为吸收剂。待净化的气体在高压（例如2 MPa）下逆流通过K₂一氧化碳₃ 溶液在吸收器中流动。它与CO₂ 反应并部分转化为碳酸氢钾（KHCO₃)。在吸收器的上端，净化后的气体排出。吸收过程中的温度通常在100°C到110°C之间。

通过蒸汽和压降解吸时，吸收的CO₂ 重新释放到洗涤液中。再生的K₂一氧化碳₃ 随后被送入吸收循环。
该 LiquiSonic^® 控制器40 能够对洗涤液浓度的波动作出反应。当KHCO₃浓度过高时，会形成泡沫并降低CO₂ 吸收性能。当K₂一氧化碳₃ 不足时，无法保证足够的吸收。

安装

这些 LiquiSonic^® 浸入式传感器 可以轻松直接安装在管道中。常见的安装位置是从吸收器到解吸器的管道（DN80）或其回流管道中。坚固的传感器结构和特殊材料的选择（如HC2000）确保了系统的长时间运行。

该 LiquiSonic^® 控制器40 与 LiquiSonic^® 传感器 以及第二个物理量的测量单元相连。控制器在主菜单中显示K₂一氧化碳₃ 洗涤液和KHCO₃ 盐的浓度。

典型测量范围：
KHCO的浓度范围₃: 0 到 25 m%
K的浓度范围₂一氧化碳₃: 0 到 25 m%
温度范围: 80 到 110 °C

客户利益

LiquiSonic^®确保在三组分液体中进行精确的浓度测量，并提供永久的数据记录。因此，实现了K的自动控制₂一氧化碳₃ - 在气体洗涤器的最大吸收或最大效率范围内的解决方案。

LiquiSonic^®减少耗时的实验室测量：

• 时间消耗：每天1小时

通过避免过量和不足的剂量，可以节省吸收器（K₂一氧化碳₃) 和解吸器（蒸汽）的材料成本。