Benfield 工艺气体洗涤器

应用

在 Benfield 工艺中，使用热碳酸钾溶液 (K₂一氧化碳₃) 作为吸收剂。待清洁的气体在高压下（例如 2 MPa）通过 K₂一氧化碳₃ 溶液在吸收器中逆流进行。它与 CO₂ 反应并部分转化为碳酸氢钾 (KHCO₃)。在吸收器的上端，清洁的气体排出。吸收过程的温度通常在 100°C 到 110°C 之间。

通过蒸汽和压降解吸时，吸收的 CO₂ 被释放回洗涤液中。再生的 K₂一氧化碳₃ 随后被送回吸收循环。
该 LiquiSonic^® 控制器 40 可以应对洗涤液浓度的波动。当 KHCO₃浓度过高时，会产生泡沫并降低 CO₂ 的吸收行为。当 K₂一氧化碳₃ 不足时，无法保证充分吸收。

安装

这些 LiquiSonic^® 浸入式传感器 可以轻松直接安装在管道中。常见的安装位置是在从吸收器到解吸器的管道（DN80）中或其回流中。坚固的传感器结构和特殊材料的选择，例如 HC2000，确保系统的长时间运行。

该 LiquiSonic^® 控制器 40 与 LiquiSonic^® 传感器 以及用于第二个物理量的测量单元连接。控制器在主菜单中显示 K 的浓度₂一氧化碳₃ - 洗涤液和KHCO₃ - 盐。

典型测量范围：
KHCO浓度范围₃: 0到25 m%
K浓度范围₂一氧化碳₃: 0到25 m%
温度范围：80到110°C

客户利益

LiquiSonic^®确保在三组分液体中进行精确的浓度测量，并持续记录数据。这实现了K的自动控制₂一氧化碳₃ - 解决方案在最大吸收或气体洗涤器最大效率范围内。

LiquiSonic^®减少耗时的实验室测量：

• 时间消耗：每天1小时

通过避免过量和不足剂量，在吸收器（K）上节省材料成本₂一氧化碳₃)和解吸器（蒸汽）。