氢氟酸浓度测量:
安全、精确、在线
安全、精确、在线
采用耐氢氟酸特殊材料进行HF浓度测量,精度达±0.05 wt%。
实时测量
无延迟连续监测
免维护
无活动部件或易损件
最高精度
即使在苛刻条件下也能精确测量
降低运营成本
高性价比解决方案,回本周期短
氢氟酸(HF)是氟化氢的水溶液,在化学中具有特殊地位:虽然它属于中等强酸,但由于其极高毒性以及能够溶解玻璃和硅酸盐材料的能力,它是最危险的工业化学品之一。同时,氢氟酸在某些关键行业中又不可或缺,例如半导体生产、石化烷基化装置或金属处理。在这些应用中,对HF浓度的精确监测不是可选项,而是确保过程安全、产品质量和设备保护的前提。LiquiSonic® 正是为满足这些要求而开发,采用能够耐受氢氟酸的特殊涂层和测量原理。
-
HF会腐蚀玻璃、石英和硅酸盐——传统传感器和电极无法使用!
-
即使是少量也存在急性生命危险——人工取样具有安全风险!
-
浓度会在过程中发生变化——没有测量就无法实现稳定工艺!

LiquiSonic 如何® 测量HF浓度

LiquiSonic® 开发时特别考虑了在氢氟酸工艺中的安全应用。所有接液部件可选用PFA、ETFE或其他耐HF材料制成。不使用任何无法承受该酸腐蚀的标准材料。
例如,在石化烷基化装置中,该系统可同时测量HF浓度、含水量和ASO含量,这三项是工艺控制和安全的关键参数。可预先定义的限值可确保系统在出现关键偏差时立即报警。此外,LiquiSonic® 还可无缝集成到现有过程控制系统中。
我们的测量系统可连续、全自动运行。这意味着完全无需人工取样。同时,精确的浓度数据还能实现针对性、按需补加氢氟酸,从而显著降低消耗和运营成本。
典型挑战
-
材料腐蚀性极强——标准材料无法胜任
-
毒性高且需保护人员——人工取样风险极高
-
浓度漂移——组成会持续变化
-
安全关键反应——例如酸失控反应
-
泄漏风险——HF可能进入二级回路
我们的解决方案
-
所有接液部件均采用耐HF材料
-
全自动在线测量
-
连续实时测量
-
可定义限值并可直接集成到过程控制系统
-
即使最微小的浓度变化也能被检测到
应用示例
氢氟酸在全球一些要求最高的工业过程中不可或缺。这也正是为什么精确监测至关重要。在石化烷基化装置中,HF作为催化剂用于生产高辛烷值燃料;即使含水量发生微小变化,也可能导致不可控的酸反应。在半导体制造中,蚀刻槽中HF浓度的精确性决定了每一片晶圆的质量。而在所有通过管道和换热器输送HF的场合,二级回路中未被发现的泄漏都可能在短时间内造成严重损害。这些应用的共同点在于: 对HF浓度的精确监测不是可选项,而是确保过程安全、产品质量和设备保护的前提。
半导体行业
HF是硅晶圆上SiO₂层的标准蚀刻剂。湿法化学清洗和蚀刻工艺(晶圆清洗、BOE溶液)离不开HF。
石化烷基化
HF在烷基化装置中用作催化剂,由丁烷和烯烃生产高辛烷值燃料(异构烷基化产物)。
表面处理
用于玻璃、水晶和石英的磨砂、蚀刻和清洗,也用于钛、钽及其他特种金属的表面处理。
氟化物生产
用于生产氟化钠、氟化铝、萤石衍生物和含氟聚合物(PTFE前体)的前体产品。
太阳能行业
用于光伏生产中硅表面的蚀刻和清洗。
35年以上浓度测量经验
SensoTech 自1990年以来一直是在线测量技术的领先供应商,并已确立其在高精度浓度和密度测量领域的专家地位。
我们的系统已在全球范围内投入使用,也包括关键应用场景。
35+
1000+
50+
ISO 9001
认证质量
常见问题
LiquiSonic® 通过测量工艺液体中的声速来测定HF浓度。超声脉冲在发射器和接收器之间穿过液体;系统根据传播时间实时计算浓度。该方法不受液体颜色、浑浊度或电导率影响,可直接在工艺过程中工作,无需取样。
对于HF应用,采用LiquiSonic®测量系统。它由传感器和控制器组成,并直接安装在装置的主管道中。
测量精度为 ± 0.05 wt%。这种高精度通过直接声速测量实现,并结合内置温度补偿,以平衡工艺温度的波动。
SensoTech传感器根据应用领域采用耐腐蚀的特殊材料制造,并针对相应的工艺化学特性进行匹配。所有接液部件均采用耐HF材料,以确保即使在强腐蚀性介质中也具有长期稳定性。
通过LiquiSonic®在工艺管道中直接进行在线测量,可完全免除人工取样。这不仅减少了工作量,更重要的是降低了人员直接接触含HF工艺液体所带来的安全风险。
可以,LiquiSonic®每秒多次连续更新测量值,并可在线显示、存储和分析。相比之下,实验室分析只能提供某一时刻的点状结果。
传感器可直接集成到现有主管道中。与其他分析方法相比,这大大降低了安装工作量。
传感器凭借其坚固、无磨损的结构,基本可实现免维护运行,且无需耗材。此外,所有接液部件均采用耐HF材料制造。因此,无需像传统测量方法那样进行定期重新校准。
可以,LiquiSonic®测量系统以数字形式提供测量数据,并可连接到上位控制系统。当超出或低于限值时会立即发出信号,从而可纳入现有安全流程。
HF浓度波动会改变工艺中的反应条件,并可能影响产品质量和装置安全,例如导致氢氟酸消耗增加、腐蚀加剧或泄漏风险上升。连续测量可立即发现此类偏差并预防风险。
通过LiquiSonic®连续在线测量,可在物料组成变化变得危险之前立即检测到。这样便可及早采取对策,显著降低反应失控(“Acid Runaway”)的风险。
通过LiquiSonic®对浓度和相态进行持续监测,可及早发现偏差和泄漏,防止氢氟酸在未被察觉的情况下进入后续回路。完整的在线数据记录还可在故障情况下提供可追溯性支持。
LiquiSonic®传感器直接安装在烷基化装置的主管道中,可同时测量氢氟酸、水和酸溶性油的浓度,精度为 ± 0.05 wt%。这可在尽量减少氢氟酸消耗的同时实现最佳产品质量,并降低Acid Runaways、腐蚀和泄漏风险。
在半导体制造中,LiquiSonic®可对SC1、SC2或BOE/BHF等蚀刻和清洗工艺中的HF浓度进行实时、温度补偿监测。这样可以精确补加蚀刻液,并将其保持在最佳浓度范围内,从而避免晶圆过蚀或欠蚀。




