Mesure de concentration d’acide fluorhydrique :
Sûr, précis, en ligne
Sûr, précis, en ligne
Mesure de concentration HF avec une précision de ±0,05 % en poids et des matériaux spéciaux résistants au HF.
Mesure en temps réel
Surveillance continue sans délai
Sans maintenance
Aucune pièce mobile ni composant d’usure
Précision maximale
Mesure précise même dans des conditions difficiles
Coûts d’exploitation réduits
Solution rentable avec un retour sur investissement rapide
L’acide fluorhydrique (HF) est la solution aqueuse de fluorure d’hydrogène et occupe une position particulière en chimie : bien qu’il fasse partie des acides moyennement forts, il est l’un des produits chimiques industriels les plus dangereux en raison de son extrême toxicité et de sa capacité à dissoudre le verre et les matériaux silicatés. En même temps, l’acide fluorhydrique est indispensable dans certaines industries clés, par exemple dans la production de semi-conducteurs, dans les unités pétrochimiques d’alkylation ou dans le traitement des métaux. La surveillance précise de la concentration de HF n’est donc pas une option, mais une condition préalable à la sécurité des procédés, à la qualité des produits et à la protection des installations. LiquiSonic® a été développé pour répondre à ces exigences, avec des revêtements spéciaux et un principe de mesure résistants à l’acide fluorhydrique.
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Le HF attaque le verre, le quartz et les silicates – les capteurs et électrodes conventionnels sont inutilisables !
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Même en petites quantités, il existe un danger de mort immédiat – l’échantillonnage manuel constitue un risque pour la sécurité !
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La concentration change pendant le processus – sans mesure, pas de procédé stable !

Comment LiquiSonic® mesure la concentration de HF

LiquiSonic® a notamment été développé pour une utilisation sûre dans les procédés à l’acide fluorhydrique. Toutes les pièces en contact avec le fluide sont fabriquées au choix en PFA, ETFE ou autres matériaux résistants au HF. Les matériaux standards qui ne résisteraient pas à l’acide ne sont pas utilisés.
Par exemple, dans les unités pétrochimiques d’alkylation, le système mesure simultanément la concentration de HF, la teneur en eau et la teneur en ASO, les trois paramètres décisifs pour le contrôle du procédé et la sécurité. Des seuils prédéfinissables garantissent que le système déclenche immédiatement une alarme en cas d’écarts critiques. De plus, LiquiSonic® s’intègre parfaitement aux systèmes de contrôle de procédé existants.
Notre système de mesure fonctionne en continu et de manière entièrement automatique. Cela signifie que l’échantillonnage manuel est totalement supprimé. En même temps, les données de concentration précises permettent un ajustement ciblé et adapté des ajouts d’acide fluorhydrique, ce qui réduit sensiblement la consommation et les coûts d’exploitation.
Défis typiques
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Corrosivité extrême des matériaux – les matériaux standards échouent
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Toxicité et protection du personnel – l’échantillonnage manuel est très risqué
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Dérive de concentration – la composition change régulièrement
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Réactions critiques pour la sécurité – p. ex. emballement acide
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Risque de fuite – introduction potentielle de HF dans les circuits secondaires
Notre solution
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Tous les composants en contact avec le fluide sont en matériaux résistants au HF
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Mesure en ligne entièrement automatique
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Mesure continue en temps réel
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Seuils définissables et intégration directe dans les systèmes de contrôle de procédé
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Même les plus faibles variations de concentration sont détectées
Exemples d’application
L’acide fluorhydrique est indispensable dans certains des procédés industriels les plus exigeants au monde. C’est précisément ce qui rend une surveillance précise critique. Dans les unités pétrochimiques d’alkylation, le HF agit comme catalyseur dans la fabrication de carburants à haut indice d’octane ; même de faibles variations de la teneur en eau peuvent entraîner des réactions acides incontrôlables. Dans la fabrication des semi-conducteurs, la concentration exacte de HF dans le bain de gravure détermine la qualité de chaque wafer. Et partout où le HF circule dans des conduites et des échangeurs de chaleur, une fuite non détectée dans le circuit secondaire peut provoquer de graves dommages en peu de temps. Ce qui relie toutes ces applications : La surveillance précise de la concentration de HF n’est pas une option, mais une condition préalable à la sécurité des procédés, à la qualité des produits et à la protection des installations.
Industrie des semi-conducteurs
Le HF est l’agent de gravure standard pour les couches de SiO₂ sur les wafers de silicium. Les procédés de nettoyage et de gravure chimiques humides (nettoyage de wafers, solutions BOE) sont impensables sans HF.
Alkylation pétrochimique
Le HF sert de catalyseur dans les unités d’alkylation pour produire des carburants à haut indice d’octane (isoalkylats) à partir de butane et d’oléfines.
Traitement de surface
Matage, gravure et nettoyage du verre, du cristal et du quartz. Également traitement de surface du titane, du tantale et d’autres métaux spéciaux.
Production de fluorures
Produit intermédiaire pour le fluorure de sodium, le fluorure d’aluminium, les dérivés de fluorine et les polymères fluorés (précurseurs du PTFE).
Industrie solaire
Gravure et nettoyage des surfaces en silicium dans la production photovoltaïque.
Plus de 35 ans d’expérience dans la mesure de concentration
SensoTech est depuis 1990 un fournisseur leader de techniques de mesure en ligne et s’est imposé comme spécialiste des mesures précises de concentration et de densité.
Nos systèmes sont utilisés dans le monde entier, y compris dans des applications critiques.
35+
1000+
50+
ISO 9001
qualité certifiée
Questions fréquemment posées
LiquiSonic® mesure la concentration de HF en utilisant la vitesse du son dans le liquide de procédé. Une impulsion ultrasonore traverse le liquide entre l'émetteur et le récepteur ; La concentration est calculée en temps réel à partir du temps de fonctionnement. Le procédé est indépendant de la couleur, de la turbidité ou de la conductivité du liquide et travaille directement dans le procédé, sans prélèvement d'échantillons.
Pour les applications HF, le système de mesure LiquiSonic® est utilisé. Il se compose d’un capteur et d’un contrôleur et est installé directement dans la conduite principale de l’installation.
La précision de mesure est de ± 0,05 % en poids. Cette précision est obtenue grâce à la mesure directe de la vitesse du son, combinée à une compensation de température intégrée qui compense les fluctuations de la température du procédé.
Les capteurs SensoTech sont réalisés, selon le domaine d’application, avec des matériaux spéciaux résistants à la corrosion, adaptés à la chimie du procédé concerné. Pour tous les composants en contact avec le fluide, des matériaux résistants au HF sont utilisés afin de garantir une stabilité à long terme, même avec des fluides agressifs.
Grâce à la mesure en ligne de LiquiSonic® directement dans la conduite de process, le prélèvement manuel d’échantillons est entièrement supprimé. Cela réduit non seulement la charge de travail, mais surtout le risque pour la sécurité du personnel, qui serait autrement en contact direct avec le fluide de process contenant du HF.
Oui, LiquiSonic® fournit des valeurs de mesure continuellement mises à jour plusieurs fois par seconde, qui peuvent être affichées, enregistrées et analysées en ligne. En revanche, les analyses de laboratoire ne fournissent que des instantanés ponctuels.
Les capteurs sont intégrés directement dans la conduite principale existante. Cela réduit considérablement les efforts d’installation par rapport aux méthodes d’analyse alternatives.
Grâce à leur conception robuste et sans usure, les capteurs fonctionnent pratiquement sans maintenance et sans consommables. De plus, tous les composants en contact avec le fluide sont fabriqués à partir de matériaux résistants au HF. Il n’est donc pas nécessaire d’effectuer des recalibrages réguliers, comme c’est le cas avec les méthodes de mesure conventionnelles.
Oui, le système de mesure LiquiSonic® met les données de mesure à disposition sous forme numérique et peut être raccordé à des systèmes de contrôle-commande supérieurs. Les dépassements ou sous-dépassements de seuil sont immédiatement signalés, de sorte qu’ils peuvent être intégrés aux procédures de sécurité existantes.
Les fluctuations de la concentration en HF modifient les conditions de réaction dans le procédé et peuvent affecter à la fois la qualité du produit et la sécurité de l’installation, par exemple par une consommation accrue d’acide fluorhydrique, une corrosion renforcée ou un risque croissant de fuite. Une mesure continue rend immédiatement visibles de tels écarts et permet de prévenir les risques.
La mesure en ligne continue avec LiquiSonic® détecte immédiatement les changements dans la composition du milieu avant qu’ils ne deviennent critiques. Il est ainsi possible d’agir suffisamment tôt et de réduire considérablement le risque d’un déroulement incontrôlé de la réaction (« Acid Runaway »).
Grâce à une surveillance permanente de la concentration et des phases avec LiquiSonic®, les écarts et les fuites peuvent être détectés à un stade précoce, avant que l’acide fluorhydrique ne passe inaperçu dans les circuits en aval. Un enregistrement continu des données en ligne facilite en outre la traçabilité en cas d’incident.
Les capteurs LiquiSonic® sont installés directement dans la conduite principale de l’unité d’alkylation et mesurent simultanément la concentration d’acide fluorhydrique, d’eau et d’huiles solubles dans l’acide avec une précision de ± 0,05 % en poids. Cela permet d’obtenir une qualité de produit optimale avec une consommation minimale d’acide fluorhydrique et réduit le risque d’acid runaways, de corrosion et de fuites.
Dans la fabrication des semi-conducteurs, LiquiSonic® surveille en temps réel et avec compensation de température la concentration en HF dans les procédés de gravure et de nettoyage tels que SC1, SC2 ou BOE/BHF. La solution de gravure peut ainsi être dosée avec précision et maintenue dans la plage de concentration optimale, ce qui évite une surgravure ou une sous-gravure de la plaquette.




