Contrairement aux procédés optiques, influencés par la couleur ou la turbidité, aux procédés basés sur la conductivité, sensibles à la conductivité électrique, ou aux procédés basés sur la densité, pouvant être perturbés par la température ou les bulles de gaz, notre procédé à ultrasons est indépendant de ces influences.

La technique de mesure LiquiSonic® ne contient en outre ni pièces mobiles ni composants susceptibles de s’user ou d’être consommés. Après l’installation, le système de mesure est donc entièrement sans maintenance et sans dérive.

Les capteurs offrent une transmission numérique du signal jusqu’à 1000 m et permettent une mesure inline continue sans prélèvement d’échantillon.

Notre système utilise la mesure du temps de propagation des ultrasons pour déterminer la vitesse du son dans les liquides. Cette vitesse du son est directement corrélée à la concentration chimique et permet précisions de mesure allant jusqu’à ±0,02 % en poids pour l’industrie des semi-conducteurs. La compensation de température intégrée garantit des résultats stables même en cas de conditions de process fluctuantes.

Le système fournit des résultats en temps réel. Il effectue plus de 30 mesures par seconde. Sur la base de ces mesures, vous recevez une valeur de mesure actualisée chaque seconde. Ce temps de réponse rapide permet un contrôle efficace des processus et une détection précoce des écarts.

LiquiSonic^® peut être utilisé pour la mesure en ligne de concentration dans différents procédés humides chimiques de semi-conducteurs, par exemple dans des procédés à base de SC1/APM, SC2/HPM, SPM/Piranha, DHF, BOE/BHF, TMAH de développement ainsi que dans certains procédés de gravure avec HF, H₃PO₄, KOH ou HNO₃. La configuration concrète dépend du fluide, de la plage de concentration, de la température, de la pression et de la conception du procédé.

Oui, LiquiSonic^® permet la surveillance continue des concentrations chimiques dans les procédés SC1 et SC2 directement pendant le procédé en cours. Ainsi, les écarts de concentration sont détectés tôt, ce qui permet de mieux respecter les formulations et de mieux contrôler les procédés de nettoyage.

Oui, les procédés BOE et BHF à base de HF et NH₄F peuvent être surveillés en ligne avec LiquiSonic^® . En particulier dans les procédés de gravure sensibles, la mesure continue de la concentration aide à maintenir des fenêtres de procédé stables et à détecter les variations à un stade précoce.

Oui, LiquiSonic^® peut être intégré dans des installations de procédés humides existantes, des wet benches ou des systèmes d’alimentation. Le raccordement s’effectue, selon la configuration de l’installation, via des raccords de procédé appropriés et des interfaces industrielles telles que 4–20 mA, Profibus, Ethernet, Modbus ou bus de terrain.

Nos capteurs pour semi-conducteurs fonctionnent de manière fiable dans une plage de température de 5 °C à 60 °C et à des pressions allant jusqu’à 4 bars.

Oui, en combinant la mesure de la vitesse du son avec des grandeurs physiques supplémentaires (par ex. la conductivité), il est possible de déterminer plusieurs composants simultanément. Cela permet également de surveiller d’autres additifs dans la fabrication des semi-conducteurs.

Le système de mesure pour semi-conducteurs est entièrement sans maintenance. Il n'y a pas de pièces d'usure mécaniques, de joints ou de fenêtres optiques qui pourraient être attaquées. Un étalonnage régulier n'est pas nécessaire - les capteurs LiquiSonic® restent stables pendant des années.

Le système offre différentes interfaces numériques (par ex. Profibus, Ethernet / IP, Foundation Fieldbus) ainsi que des sorties analogiques 4-20 mA. L’intégration s’effectue sans difficulté via des protocoles standardisés.

La vitesse du son dans un liquide dépend de la température. LiquiSonic^® mesure donc, en plus de la vitesse du son, la température du procédé et compense automatiquement les effets de la température. Cela signifie que les valeurs de concentration restent stables et fiables même en cas de variations de température.