Ao contrário dos métodos óticos, que são influenciados pela cor ou turbidez, dos métodos baseados em condutividade, que reagem sensivelmente à condutividade elétrica, ou dos métodos baseados em densidade, que podem ser perturbados por temperatura ou bolhas de gás, o nosso método ultrassónico é independente dessas influências.

A tecnologia de medição LiquiSonic® também não contém peças móveis nem componentes que possam desgastar-se ou ser consumidos. Após a instalação, o sistema de medição é, por isso, totalmente isento de manutenção e sem deriva.

Os sensores oferecem transmissão digital de sinal até 1000 m e permitem medição contínua em linha sem recolha de amostras.

O nosso sistema utiliza a medição do tempo de propagação ultrassónica para determinar a velocidade do som em líquidos. Essa velocidade do som correlaciona-se diretamente com a concentração química e permite precisões de medição de até ±0,02 wt% para a indústria de semicondutores. A compensação de temperatura integrada garante resultados estáveis mesmo em condições de processo variáveis.

O sistema fornece resultados em tempo real. São realizadas mais de 30 medições por segundo. Com base nessas medições, recebe a cada segundo um valor de medição atual. Este tempo de resposta rápido permite o controle eficaz do processo e a detecção precoce de desvios.

LiquiSonic^® pode ser utilizado para medição em linha da concentração em vários processos químicos húmidos de semicondutores, por exemplo em SC1/APM, SC2/HPM, SPM/Piranha, DHF, BOE/BHF, processos baseados em TMAH, processos de revelação, bem como em processos de gravação selecionados com HF, H₃PO₄, KOH ou HNO₃. A configuração concreta depende do meio, da gama de concentração, da temperatura, da pressão e da estrutura do processo.

Sim, o LiquiSonic^® permite monitorização contínua das concentrações químicas nos processos SC1 e SC2 diretamente no processo em curso. Dessa forma, os desvios de concentração tornam-se visíveis precocemente, permitindo manter as formulações de forma mais estável e controlar melhor os processos de limpeza.

Sim, processos BOE e BHF à base de HF e NH₄F podem ser monitorizados com LiquiSonic^® em linha. Especialmente em processos de ataque químico sensíveis, a medição contínua da concentração ajuda a manter estáveis as janelas de processo e a identificar flutuações precocemente.

Sim, LiquiSonic^® pode ser integrado em instalações de processo húmido existentes, Wet Benches ou sistemas de abastecimento. A ligação é realizada, dependendo da configuração da instalação, através de ligações de processo adequadas e interfaces industriais como 4–20 mA, Profibus, Ethernet, Modbus ou fieldbus.

Os nossos sensores para semicondutores funcionam de forma fiável numa faixa de temperatura de 5 °C a 60 °C e pressões até 4 bar.

Sim, através da combinação da medição da velocidade do som com grandezas físicas adicionais (por exemplo, condutividade), podem ser vários componentes determinados simultaneamente. Assim, também é possível monitorizar outros aditivos no fabrico de semicondutores.

O sistema de medição para semicondutores é totalmente isento de manutenção. Não existem peças mecânicas sujeitas a desgaste, vedantes ou janelas óticas que possam ser atacadas. Não é necessária uma calibração regular - os sensores LiquiSonic® mantêm-se estáveis durante anos.

O sistema oferece várias interfaces digitais (por exemplo, Profibus, Ethernet / IP, Foundation Fieldbus), bem como saídas analógicas de 4-20 mA. A integração é feita sem problemas através de protocolos normalizados.

A velocidade do som de um líquido depende da temperatura. Por isso, LiquiSonic^® capta, além da velocidade do som, também a temperatura do processo e compensa automaticamente as influências da temperaturaDesta forma, os valores de concentração mantêm-se estáveis e fiáveis mesmo com variações de temperatura.