Ao contrário dos métodos ópticos, que são influenciados por cor ou turbidez, dos métodos baseados em condutividade, que reagem sensivelmente à condutividade elétrica, ou dos métodos baseados em densidade, que podem ser afetados por temperatura ou bolhas de gás, o nosso método ultrassônico é independente dessas influências.

A tecnologia de medição LiquiSonic® também não contém peças móveis nem componentes que possam se desgastar ou ser consumidos. Após a instalação, o sistema de medição é, portanto, completamente livre de manutenção e sem deriva.

Os sensores oferecem transmissão digital de sinal de até 1000 m e possibilitam medição inline contínua sem coleta de amostras.

Nosso sistema utiliza a medição do tempo de trânsito ultrassônico para determinar a velocidade do som em líquidos. Essa velocidade do som se correlaciona diretamente com a concentração química e permite precisões de medição de até ±0,02 wt% para a indústria de semicondutores. A compensação de temperatura integrada garante resultados estáveis mesmo sob condições de processo variáveis.

O sistema fornece resultados em tempo real. São realizadas mais de 30 medições por segundo. Com base nessas medições, você recebe um valor de medição atualizado a cada segundoEsse rápido tempo de resposta permite um controle eficaz do processo e a detecção precoce de desvios.

LiquiSonic^® pode ser utilizado para medição inline de concentração em vários processos químicos úmidos de semicondutores, por exemplo em SC1/APM, SC2/HPM, SPM/Piranha, DHF, BOE/BHF e processos baseados em TMAH processos de revelação, bem como em processos de gravação selecionados com HF, H₃PO₄, KOH ou HNO₃. A configuração concreta depende do meio, da faixa de concentração, da temperatura, da pressão e da estrutura do processo.

Sim, LiquiSonic^® permite a monitorização contínua das concentrações químicas em processos SC1 e SC2 diretamente no processo em curso. Isso torna os desvios de concentração visíveis precocemente, permitindo manter as formulações de forma mais estável e controlar melhor os processos de limpeza.

Sim, processos BOE e BHF à base de HF e NH₄F podem ser monitorados inline com LiquiSonic^® . Especialmente em processos de gravação sensíveis, a medição contínua da concentração ajuda a manter estáveis as janelas de processo e a identificar variações precocemente.

Sim, LiquiSonic^® pode ser integrado em instalações de processo úmido existentes, wet benches ou sistemas de abastecimento. A conexão é realizada, dependendo da configuração da instalação, por meio de conexões de processo adequadas e interfaces industriais como 4–20 mA, Profibus, Ethernet, Modbus ou fieldbus.

Nossos sensores para semicondutores operam de forma confiável em uma faixa de temperatura de 5 °C a 60 °C e pressões de até 4 bar.

Sim, ao combinar a medição da velocidade do som com grandezas físicas adicionais (por exemplo, condutividade), podem ser vários componentes determinados simultaneamente. Dessa forma, também é possível monitorar outros aditivos na fabricação de semicondutores.

O sistema de medição para semicondutores é completamente livre de manutenção. Não existem peças mecânicas de desgaste, vedações ou janelas ópticas que possam ser atacadas. A calibração regular não é necessária – os sensores LiquiSonic® permanecem estáveis ​​por anos.

O sistema oferece várias interfaces digitais (por exemplo, Profibus, Ethernet / IP, Foundation Fieldbus), bem como saídas analógicas de 4-20 mA. A integração é realizada sem problemas por meio de protocolos padronizados.

A velocidade do som de um líquido depende da temperatura. Por isso, LiquiSonic^® além da velocidade do som, também registra a temperatura do processo e compensa automaticamente as influências da temperatura. Isto significa que os valores de concentração permanecem estáveis ​​e confiáveis ​​mesmo durante flutuações de temperatura.