A diferencia de los métodos ópticos, que se ven afectados por el color o la turbidez, los métodos basados en conductividad, sensibles a la conductividad eléctrica, o los métodos basados en densidad, que pueden verse alterados por la temperatura o las burbujas de gas, nuestro método ultrasónico es independiente de estas influencias.

La tecnología de medición LiquiSonic® tampoco contiene piezas móviles ni componentes que puedan desgastarse o consumirse. Por ello, tras la instalación, el sistema de medición es completamente libre de mantenimiento y sin deriva.

Los sensores ofrecen transmisión digital de señales de hasta 1000 m y permiten medición continua en línea sin toma de muestras.

Nuestro sistema utiliza la medición del tiempo de tránsito ultrasónico para determinar la velocidad del sonido en líquidos. Esta velocidad del sonido se correlaciona directamente con la concentración química y permite precisiones de medición de hasta ±0,02 % en peso para la industria de semiconductores. La compensación de temperatura integrada garantiza resultados estables incluso con condiciones de proceso variables.

El sistema entrega resultados en tiempo real. Se realizan más de 30 mediciones por segundo. Basándose en estas mediciones, usted recibe un valor de medición actual cada segundoEste rápido tiempo de respuesta permite un control eficaz del proceso y una detección temprana de desviaciones.

LiquiSonic^® puede utilizarse para la medición de concentración en línea en diversos procesos químicos húmedos de semiconductores, por ejemplo en SC1/APM, SC2/HPM, SPM/Piraña, DHF, BOE/BHF, procesos basados en TMAH, procesos de revelado, así como en procesos de grabado seleccionados con HF, H₃PO₄, KOH o HNO₃. La configuración concreta depende del medio, el rango de concentración, la temperatura, la presión y la estructura del proceso.

Sí, LiquiSonic^® permite la supervisión continua de las concentraciones químicas en procesos SC1 y SC2 directamente en el proceso en curso. De este modo, las desviaciones de concentración se detectan a tiempo, lo que permite mantener las formulaciones de manera más estable y controlar mejor los procesos de limpieza.

Sí, los procesos BOE y BHF basados en HF y NH₄F pueden supervisarse con LiquiSonic^® en línea. Especialmente en procesos de grabado sensibles, la medición continua de la concentración ayuda a mantener estables las ventanas de proceso y a detectar variaciones de forma temprana.

Sí, LiquiSonic^® puede integrarse en sistemas existentes de procesos húmedos, bancos húmedos o sistemas de suministro. La conexión se realiza, según la configuración de la instalación, mediante conexiones de proceso adecuadas e interfaces industriales como 4–20 mA, Profibus, Ethernet, Modbus o bus de campo.

Nuestros sensores para semiconductores funcionan de forma fiable en un rango de temperatura de 5 °C a 60 °C y presiones de hasta 4 bar.

Sí, combinando la medición de la velocidad del sonido con magnitudes físicas adicionales (p. ej., conductividad), se pueden varias componentes determinar simultáneamente. De este modo, también pueden supervisarse otros aditivos en la fabricación de semiconductores.

El sistema de medición para semiconductores es completamente libre de mantenimiento. No hay piezas mecánicas de desgaste, juntas ni ventanas ópticas que puedan verse afectadas. No es necesaria una calibración periódica: los sensores LiquiSonic® permanecen estables durante años.

El sistema ofrece diversas interfaces digitales (p. ej., Profibus, Ethernet / IP, Foundation Fieldbus), así como salidas analógicas de 4-20 mA. La integración se realiza sin problemas mediante protocolos estandarizados.

La velocidad del sonido de un líquido depende de la temperatura. LiquiSonic^® por ello registra, además de la velocidad del sonido, también la temperatura del proceso y compensa automáticamente las influencias de la temperatura. De este modo, los valores de concentración se mantienen estables y fiables incluso ante fluctuaciones de temperatura.