濃度測定
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半導体産業
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半導体プロセスの濃度モニタリング - 効率的な生産、安定したプロセス、最高の品質を実現します。
このトピックに関する無料ウェビナーにアクセスしてください 濃度測定 で 2026年5月20日の半導体業界！
±0.02wt%まで
リアルタイム測定
メンテナンスフリー
コスト削減
半導体プロセスにおける濃度測定の課題
半導体製造では、化学物質の濃度の正確な比率が重要ですが、従来の実験室分析では結果が得られるのが遅すぎることがよくあります。と リキソニック® SensoTech は、既存のプロセスに簡単に統合できる信頼性の高いリアルタイム監視を可能にします。このシステムはメンテナンスなしで正確な測定データを提供するため、プロセスの信頼性と効率が向上します。
課題
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化学物質の濃度が目標範囲外である
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時間のかかる実験室分析
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即時かつ信頼できる化学組成情報がない
ソリューション: リキソニック®
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LiquiSonic®によるクリアなモニタリング
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薬品濃度を瞬時に表示
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既存のシステムへのシームレスな統合
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メンテナンスフリーで消耗品も不要
あなたの利点
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追跡可能で信頼性の高い測定結果
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リアルタイムの測定結果
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完全メンテナンスフリーのセンサーと耐薬品性素材
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あらゆるサイズと構成のシステムに簡単に統合
当社のソリューション: LiquiSonic® 測定システム
リアルタイムで集中力をモニタリング
リキソニック® 最新の超音波技術と温度補償された測定を組み合わせて、半導体製造における重要な化学混合物について正確な結果を提供します。リアルタイム監視により、安定した製品品質が保証され、逸脱が低減され、プロセス最適化のためのデータが提供されます。これにより、運転コストと化学薬品の消費量が削減され、プロセスの信頼性と効率が向上します。
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品質の確保: リアルタイム監視により、逸脱のない正確な結果が保証されます。
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コストの削減: 信頼性を最大限に高める最適化されたプロセス 以下 消費。
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効率の向上: より高い製品品質 運用コストの削減。
技術的な詳細と仕様
超音波測定原理
液体中の音速は、溶解物質の濃度に直接関係します。高精度の時間測定により、濃度を正確に測定できます。
導電率の統合
3 成分系では、両方の濃度を明確に決定するための 2 番目の物理パラメータとして導電率が使用されます。
温度補償
測定セルに統合された 2 つの PT1000 センサーにより、自動温度補正が保証され、あらゆる条件下で正確な測定値が得られます。プロセス温度を直接検出することで音速をリアルタイムに補正し、変動時でも安定性と精度を向上させます。
経済的利益
リアルタイム濃度測定が増加 品質、効率、信頼性、同時に コストとリソースの消費量が減少します。
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運用コストの削減 化学物質の消費量が減り、実験室での分析が少なくなることで
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スクラップとやり直しの削減逸脱を特定してすぐに修正できるため
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安定した製品品質 競争力を確保し、苦情を削減します
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より効率的なプロセス 時間遅れの実験室測定の代わりにリアルタイムデータを使用
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システムの可用性の向上 消耗品のないメンテナンスフリーのセンサーのおかげで
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正確なデータによるプロセスの最適化 継続的な改善とリソースの有効活用につながります
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早いROI エネルギーと運用コストの節約のおかげで
技術仕様
測定精度 | ±0.02wt%まで |
温度範囲 | 5℃～60℃ |
印刷領域 | 最大4バール |
材質とコーティング | PFA |
デジタル伝送 | 最大 1,000 m (それ以上はご要望に応じて) |
インターフェース | 4 ～ 20 mA、プロフィバス、イーサネット、Modbus、フィールドバスなど |
保護クラス | IP65 |
較正 | 工場での 1 回限りの校正 |
メンテナンス | 完全メンテナンスフリー |
応用例
典型的な 化学プロセスのステップ そして私たちのものはこれに使用されました プロセスソリューション 洗浄およびエッチングプロセス、および特殊なエッチングおよび現像プロセス用:
SC-1 (APM)
NH4ああ/H2O2
SC-2（HPM）
HCI/H2O2
SPM（ピラニア）
H2それで4/H2O2
酸化物除去（DHF）
HF
酸化物除去（BOE/BHF）
HF/NH4F
Si₃N₄ エッチング
H3私書箱4
等方性シリコンエッチング
HF/ENT3
異方性シリコンエッチング（MEMS）
KOH/Si
TMAH/Si
フォトレジストの開発
TMAH
硝酸・酢酸
耳鼻咽喉科3/CH3コー
HF/塩酸
HF/塩酸
成功事例と参考資料:
詳細なケーススタディと顧客事例は、当社の営業チームから入手できます。貴社の業界での具体的なアプリケーション例については、お問い合わせください。
最も重要な利点の概要
一定の品質
リアルタイム監視により逸脱を防ぎ、一貫した製品品質を保証します。
コスト削減
最適化されたプロセスにより化学物質の消費量が削減され、運用コストが削減されます。
最大効率
リアルタイムのデータにより、より迅速な意思決定と最適化されたプロセスが可能になります。
メンテナンスフリー
センサーは耐薬品性があり、消耗品は必要ありません。
よくある質問
センソテックGmbH は、ドイツのマクデブルク近郊のバーレーベンに拠点を置くプロセス測定技術の分野の大手企業です。当社は、産業プロセスを監視および最適化するための革新的なソリューションを開発および製造しています。当社の専門分野は、液体中の濃度、密度、その他のパラメータをプロセス中にリアルタイムで直接測定することです。
色や曇りの影響を受ける光学的方法、電気伝導度に敏感な導電率ベースの方法、温度や気泡によって乱される可能性がある密度ベースの方法とは異なり、当社の方法は、 超音波検査 これらの影響から独立しています。
の また、LiquiSonic® 測定テクノロジーには、摩耗したり使い果たされる可能性のある可動部品やコンポーネントが含まれていません。したがって、設置後の測定システムは次のようになります。 完全にメンテナンスフリー そしてドリフトフリー。
センサーは最大 1000 m までのデジタル信号伝送を提供し、 連続インライン測定 サンプリングなしで。
当社のシステムは、超音波伝播時間測定を使用して液体中の音速を測定します。この音速は化学物質の濃度と直接相関しており、 最大±0.02 wt%の測定精度 半導体産業向け。統合された温度補償により、変動するプロセス条件下でも安定した結果が保証されます。
システムはリアルタイムで結果を提供します。それ 1 秒あたり 30 回を超える測定が実行されます。これらの測定結果に基づいて得られるのは、 毎秒現在の測定値。この速い応答時間により、効果的なプロセス制御と逸脱の早期検出が可能になります。
当社の半導体センサーは 1 台で確実に動作します 温度範囲は5℃～60℃ 最大4バールの圧力。
はい、音速測定と追加の物理量 (導電率など) を組み合わせることで可能です。 複数のコンポーネント 同時に決定されます。これは、半導体製造における他の添加剤も監視できることを意味します。
半導体測定装置は、 完全にメンテナンスフリー。攻撃される可能性のある機械的摩耗部品、シール、光学窓はありません。定期的な校正は必要ありません。LiquiSonic® センサーは何年も安定した状態を保ちます。
このシステムは、さまざまなデジタル インターフェイス (Profibus、イーサネット / IP、Foundation フィールドバスなど) およびアナログ 4 ～ 20 mA 出力を提供します。統合が行われます 標準化されたプロトコルを介して簡単に実行できます。
音速は温度に影響されるため、当社のLiquiSonic® センサーには高精度温度センサーを搭載。これにより、測定に対する温度の影響が可能になります。 直接補償される なる。したがって、追加の温度センサーを半導体プロセスに組み込む必要はありません。