BASF は、MDEA プラントのほか、他の 2 つのガス洗浄プラント、アンモニア プラントおよび合成ガス プラントのライセンシーです。これはコラボレーションが成功することで実現します リキソニック® システム BASF AG ルートヴィヒスハーフェンによって MDEA 濃度測定に推奨されています。
MDEAでの音速測定
応用
吸収装置内では、天然ガスが洗浄液を向流で通過し、洗浄液には干渉成分が豊富になります。精製された天然ガスは吸収装置の上端から出てきます。それと
H2SとCO2 洗浄後、汚染された MDEA (リッチアミン) はいわゆるストリッパーに移されます。ストリッピングプロセス中、洗浄溶液が加熱され、酸性ガスが脱着されます。再生された MDEA (リーン アミン) は次に冷却され、濾過され、吸収に戻されます。
の LiquiSonic測定システム® 30 再生された MDEA 濃度の正確な分析と永続的なデータ収集が可能になります。インラインを通して リキソニック® センサー アミンの洗濯物は24時間監視されています。これは、変動する MDEA 濃度にいつでも対応し、吸収効率を高めることができることを意味します。
インストール
の リキソニック® センサー これらはストリッパーからアミン冷却器とフィルター後の吸収器までの DN50 パイプラインと MDEA タンクに設置されます。
濃度範囲：20～45m%
温度範囲：30～65℃
顧客のメリット
インラインセンサーを使用した MDEA 濃度の連続測定により、手動サンプリングの必要がなくなります。これにより、材料費と人件費が節約され、システムの安全性が向上します。
- 所要時間：1日あたり1時間
を使用して濃度を測定すると、 リキソニック® 最適な吸収効率を実現するために、再生 MDEA 洗浄溶液の純度が保証されています。 MDEA 洗浄液の過剰摂取を避けることによって。
アミンスクラビングはCOを捕捉するための化学プロセスです2、H2天然ガスからの S およびその他の酸性ガス。アミン（通常は第三級アミン）の弱アルカリ性水溶液が使用され、酸性ガスを可逆的に化学的に吸収します。 Hに対する高い選択性により2SとCO2 吸収剤として第三級メチルジエタノールアミン（MDEA）を使用しています。ガス洗浄の目的は、パイプラインの要件に従って酸性天然ガスをさらに輸送できるように準備することです。そうしないと、腐食による損傷が発生する可能性があります。
