種類に応じて、出発原料を任意の割合で混合し、ケイ酸アルカリ合成で水ガラスに変換します。不純物は溶解工程や製品特性に悪影響を与えるため、高純度の原料が使用されます。
の リキソニック® 計測技術 プロセス濃度 (Na) を数秒以内に正確に測定できます。2O または K2OとSiO2) とプロセス温度。永続的なデータ記録のおかげで、後の時点でもプロセス条件を品質検査の一部としてチェックできます。
LiquiSonicによる音速測定® 40
応用
水ガラスは高純度の珪砂（SiO）を溶かして作られます。2）炭酸アルカリ（Na）2CO3 またはK2CO3） 作った。原料混合物は溶解槽内で1200℃～1500℃で連続的に溶解されます。溶融したアルカリケイ酸塩はチェーンコンベアベルト上で水を噴霧して冷却されます。冷却された断片は、所望の密度と粘度が達成されるまで、4 ～ 5 bar、140 ～ 150 °C のオートクレーブで溶解されます。
最終的な不純物は濾過によって除去されます。次いで、濾過された透明なアルカリケイ酸塩溶液を水で所望の含水量に調整する。 リキソニック® センサー プロセス濃度を 24 時間測定し、正確なプロセス制御を可能にします。このようにして、品質の変動を回避することができます。
インストール
の リキソニック® ダイビングセンサー オートクレーブバイパス管に直接取り付けられます。堅牢なセンサー構造と HC2000 などの特殊な材料の選択により、システムの長いプロセス寿命が保証されます。の リキソニック® コントローラー 40 それと一緒です リキソニック® センサー 前記第２の物理量の測定手段とを備える。コントローラーはメインメニューにNa濃度を表示します2OとSiO2 現在のプロセス温度も同様です。
一般的な測定範囲:
濃度範囲Na2Ｏ：６～９ｍ％
SiO 濃度範囲2：20～30m％
温度範囲：40～95℃
濃度範囲K2O：19～24m％
SiO 濃度範囲2：30～35m%
温度範囲：40～70℃
顧客のメリット
リキソニック® 正確な濃度測定と必要なNaの調整を保証します2O/SiO2 モル比。このようにして、荷重に対する安定性などの特性を最適に引き出すことができます。 リキソニック® 電位差滴定など、時間のかかる複雑な実験室測定を削減します。
- 所要時間：1日あたり1時間
水ガラス破片の最適な溶解速度により、蒸気が節約されます。
水ガラスの製造には、珪砂に加えて、さまざまなアルカリ炭酸塩が使用されます。そこでソーダを使うことで（Na2CO3) ソーダ水ガラスとスルーカリ (K2CO3) カリウム水ガラス製。
