A differenza dei metodi ottici, che sono influenzati dal colore o della foschia, dei metodi basati sulla conduttività, che sono sensibili alla conduttività elettrica, o dei metodi basati sulla densità, che possono essere disturbati dalla temperatura o dalle bolle di gas, il nostro metodo a ultrasuoni è indipendente da queste influenze.

La Inoltre, la tecnologia di misurazione LiquiSonic® non contiene né parti mobili né componenti che possano usurarsi o consumarsi. Dopo l'installazione, il sistema di misurazione è quindi completamente esente da manutenzione e privo di deriva.

I sensori offrono la trasmissione del segnale digitale fino a 1000 me abilitano misurazione inline continua senza prelievo di campioni.

Il nostro sistema utilizza la misurazione del tempo di transito a ultrasuoni per determinare la velocità del suono nei liquidi. Questa velocità del suono è direttamente correlata alla concentrazione chimica e consente accuratezze di misura fino a ±0,02 wt% per l'industria dei semiconduttori. La compensazione integrata della temperatura garantisce risultati stabili anche in presenza di condizioni di processo variabili.

Il sistema fornisce risultati in tempo reale. Vengono Vengono effettuate oltre 30 misurazioni al secondo. In base a queste misurazioni ottieni un valore misurato aggiornato ogni secondo. Questo rapido tempo di risposta consente un controllo efficace del processo e un rilevamento tempestivo delle deviazioni.

LiquiSonic^® può essere utilizzato per la misurazione inline della concentrazione in diversi processi chimici umidi per semiconduttori, ad esempio in SC1/APM, SC2/HPM, SPM/Piranha, DHF, BOE/BHF, basato su TMAH processi di sviluppo nonché in processi di incisione selezionati con HF, H₃PO₄, KOH o HNO₃. La configurazione concreta dipende dal mezzo, dall'intervallo di concentrazione, dalla temperatura, dalla pressione e dalla struttura del processo.

Sì, LiquiSonic^® consente il monitoraggio continuo delle concentrazioni chimiche nei processi SC1 e SC2 direttamente nel processo in corso. In questo modo le deviazioni di concentrazione diventano visibili tempestivamente, consentendo di rispettare le ricette in modo più stabile e di controllare meglio i processi di pulizia.

Sì, i processi BOE e BHF a base di HF e NH₄F possono essere monitorati con LiquiSonic^® in linea. Soprattutto nei processi di incisione sensibili, la misurazione continua della concentrazione aiuta a mantenere stabili le finestre di processo e a riconoscere tempestivamente le variazioni.

Sì, LiquiSonic^® può essere integrato in impianti di processo a umido esistenti, Wet Benches o sistemi di alimentazione. Il collegamento avviene, a seconda della configurazione dell'impianto, tramite idonei attacchi di processo e interfacce industriali come 4–20 mA, Profibus, Ethernet, Modbus o bus di campo.

I nostri sensori per semiconduttori funzionano in modo affidabile in un intervallo di temperatura da 5 °C a 60 °C e a pressioni fino a 4 bar.

Sì, combinando la misurazione della velocità del suono con ulteriori grandezze fisiche (ad es. la conducibilità) è possibile più componenti determinarli contemporaneamente. In questo modo è possibile monitorare anche ulteriori additivi nella produzione di semiconduttori.

Il sistema di misura per semiconduttori è completamente esente da manutenzione. Non ci sono parti meccaniche soggette a usura, guarnizioni o finestre ottiche che potrebbero essere attaccate. Non è necessaria una calibrazione regolare: i sensori LiquiSonic® rimangono stabili per anni.

Il sistema offre diverse interfacce digitali (ad es. Profibus, Ethernet / IP, Foundation Fieldbus) nonché uscite analogiche 4-20 mA. L'integrazione avviene senza problemi tramite protocolli standardizzati.

La velocità del suono in un liquido dipende dalla temperatura. LiquiSonic^® rileva quindi, oltre alla velocità del suono, anche la temperatura di processo e compensa automaticamente gli effetti della temperaturaIn questo modo i valori di concentrazione rimangono stabili e affidabili anche in presenza di oscillazioni di temperatura.