LiquiSonic® misura la concentrazione di HF mediante la velocità del suono nel liquido di processo. Un impulso a ultrasuoni attraversa il liquido tra trasmettitore e ricevitore; dal tempo di transito viene calcolata la concentrazione in tempo reale. Il metodo è indipendente dal colore, dalla torbidità o dalla conducibilità del liquido e funziona direttamente nel processo, senza prelievo di campioni.

Per le applicazioni HF si utilizza il sistema di misura LiquiSonic®. È composto da sensore e controller e viene installato direttamente nella linea principale dell'impianto.

L'accuratezza di misura è pari a ± 0,05 wt%. Questa precisione si ottiene grazie alla misurazione diretta della velocità del suono, combinata con una compensazione integrata della temperatura che bilancia le variazioni della temperatura di processo.

I sensori SensoTech vengono realizzati, a seconda dell'ambito di impiego, con materiali speciali resistenti alla corrosione, adattati alla specifica chimica di processo. Per tutti i componenti a contatto con il fluido vengono impiegati materiali resistenti all'HF, per garantire stabilità a lungo termine anche con fluidi aggressivi.

Grazie alla misurazione in linea di LiquiSonic® direttamente nella linea di processo, il campionamento manuale viene completamente eliminato. Questo non solo riduce il carico di lavoro, ma soprattutto il rischio per la sicurezza del personale, che altrimenti entrerebbe in contatto diretto con il liquido di processo contenente HF.

Sì, LiquiSonic® fornisce valori di misura aggiornati continuamente più volte al secondo, che possono essere visualizzati online, memorizzati e analizzati. Al contrario, le analisi di laboratorio forniscono solo rilevazioni puntuali istantanee.

I sensori vengono integrati direttamente nella linea principale esistente. Ciò riduce notevolmente l'impegno di installazione rispetto a metodi di analisi alternativi.

Grazie alla loro struttura robusta e priva di usura, i sensori funzionano in gran parte senza manutenzione e senza materiali di consumo. Inoltre, tutti i componenti a contatto con il fluido sono realizzati con materiali resistenti all'HF. In questo modo non è necessaria la ricalibrazione periodica, richiesta invece dai metodi di misura convenzionali.

Sì, il sistema di misura LiquiSonic® rende disponibili i dati di misura in formato digitale e può essere collegato a sistemi di controllo superiori. Il superamento o il mancato raggiungimento dei valori limite viene segnalato immediatamente, in modo da poter essere integrato nei processi di sicurezza esistenti.

Le variazioni della concentrazione di HF modificano le condizioni di reazione nel processo e possono compromettere sia la qualità del prodotto sia la sicurezza dell'impianto, ad esempio a causa di un maggiore consumo di acido fluoridrico, corrosione più intensa o un rischio crescente di perdite. Una misurazione continua rende immediatamente visibili tali deviazioni e previene i rischi.

La misurazione continua in linea con LiquiSonic® rileva immediatamente i cambiamenti nella composizione della sostanza, prima che diventino critici. Ciò consente di intervenire tempestivamente e di ridurre sensibilmente il rischio di un andamento incontrollato della reazione ("Acid Runaway").

Grazie al monitoraggio permanente della concentrazione e delle fasi con LiquiSonic®, anomalie e perdite possono essere rilevate tempestivamente, prima che l'acido fluoridrico passi inosservato nei circuiti a valle. Una registrazione online continua dei dati supporta inoltre la tracciabilità in caso di guasto.

I sensori LiquiSonic® vengono installati direttamente nella linea principale dell'impianto di alchilazione e misurano simultaneamente la concentrazione di acido fluoridrico, acqua e oli solubili in acido con un'accuratezza di ± 0,05 wt%. Ciò consente una qualità ottimale del prodotto con un consumo minimo di acido fluoridrico e riduce il rischio di Acid Runaways, corrosione e perdite.

Nella produzione di semiconduttori, LiquiSonic® monitora la concentrazione di HF nei processi di incisione e pulizia come SC1, SC2 o BOE/BHF in tempo reale e con compensazione della temperatura. In questo modo la soluzione di incisione può essere dosata con precisione e mantenuta nell'intervallo di concentrazione ottimale, evitando una sovraincisione o sottoincisione del wafer.