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Medição da concentração de ácido fluorídrico:
Seguro, preciso, inline

Medição da concentração de HF com precisão de ±0,05 % em peso e materiais especiais resistentes a HF.

Medição em tempo real

Monitoramento contínuo sem atraso

Livre de manutenção

Sem peças móveis ou componentes de desgaste

Máxima precisão

Medição precisa mesmo sob condições difíceis

Custos operacionais reduzidos

Solução econômica com curto tempo de retorno

O ácido fluorídrico (HF) é a solução aquosa de fluoreto de hidrogênio e ocupa uma posição especial na química: embora seja considerado um ácido de força média, é uma das substâncias químicas industriais mais perigosas devido à sua extrema toxicidade e à capacidade de dissolver vidro e materiais silicatados. Ao mesmo tempo, o ácido fluorídrico é indispensável em determinadas indústrias-chave, por exemplo, na produção de semicondutores, em unidades petroquímicas de alquilação ou no tratamento de metais. O monitoramento exato da concentração de HF não é uma opção, mas um requisito para a segurança do processo, a qualidade do produto e a proteção da instalação. LiquiSonic® foi desenvolvido para esses requisitos, com revestimentos especiais e um princípio de medição que resistem ao ácido fluorídrico.

  • O HF ataca vidro, quartzo e silicatos - sensores e eletrodos convencionais são inutilizáveis!
  • Mesmo em pequenas quantidades há risco agudo de morte - a amostragem manual é um risco de segurança!
  • A concentração muda durante o processo - sem medição não há processo estável!

Como LiquiSonic® mede a concentração de HF

LiquiSonic® foi desenvolvido, entre outras aplicações, para uso seguro em processos com ácido fluorídrico. Todas as partes em contato com o meio são fabricadas opcionalmente em PFA, ETFE ou outros materiais resistentes a HF. Materiais padrão que não resistiriam ao ácido não são utilizados.

Por exemplo, em unidades petroquímicas de alquilação, o sistema mede simultaneamente a concentração de HF, o teor de água e o teor de ASO, os três parâmetros decisivos para o controle e a segurança do processo. Limites predefiníveis garantem que o sistema dispare imediatamente um alarme em caso de desvios críticos. Além disso, o LiquiSonic® pode ser integrado perfeitamente aos sistemas de controle de processo existentes.

Nosso sistema de medição mede continuamente e de forma totalmente automática. Isso significa que a amostragem manual é completamente eliminada. Ao mesmo tempo, os dados precisos de concentração permitem uma dosagem complementar direcionada e conforme a necessidade de ácido fluorídrico, o que reduz de forma perceptível o consumo e os custos operacionais.

Desafios típicos

  • Corrosividade extrema dos materiais – materiais padrão falham
  • Toxicidade e proteção do pessoal – amostragem manual de alto risco
  • Deriva de concentração – a composição muda regularmente
  • Reações críticas para a segurança – por exemplo, acid runaway
  • Risco de vazamento – potencial entrada de HF em circuitos secundários

Nossa solução

  • Todos os componentes em contato com o meio feitos de materiais resistentes a HF
  • Medição inline totalmente automática
  • Medição contínua em tempo real
  • Limites definíveis e integração direta em sistemas de controle de processo
  • Mesmo as menores alterações de concentração são detectadas

Exemplos de aplicação

O ácido fluorídrico é indispensável em alguns dos processos industriais mais exigentes do mundo. É exatamente isso que torna o monitoramento preciso algo crítico. Em unidades petroquímicas de alquilação, o HF atua como catalisador na produção de combustíveis de alta octanagem; pequenas alterações no teor de água podem levar a reações ácidas incontroláveis. Na fabricação de semicondutores, a concentração exata de HF no banho de ataque determina a qualidade de cada wafer. E em todos os locais onde o HF circula por tubulações e trocadores de calor, um vazamento não detectado no circuito secundário pode causar danos graves em pouco tempo. O que conecta todas essas aplicações: O monitoramento exato da concentração de HF não é uma opção, mas um requisito para a segurança do processo, a qualidade do produto e a proteção da instalação.


Indústria de semicondutores

O HF é o agente de ataque padrão para camadas de SiO₂ em wafers de silício. Processos úmidos de limpeza e ataque químico (wafer cleaning, soluções BOE) são impensáveis sem HF.

Alquilação petroquímica

O HF serve como catalisador em unidades de alquilação para a produção de combustíveis de alta octanagem (isoalquilatos) a partir de butano e olefinas.

Tratamento de superfícies

Mateação, gravação e limpeza de vidro, cristal e quartzo. Também tratamento de superfícies de titânio, tântalo e outros metais especiais.

Produção de fluoretos

Produto intermediário para fluoreto de sódio, fluoreto de alumínio, derivados de fluorita e polímeros fluorados (precursores de PTFE).

Indústria solar

Ataque químico e limpeza de superfícies de silício na produção fotovoltaica.

Mais de 35 anos de experiência em medição de concentração

A SensoTech é, desde 1990, fornecedora líder de tecnologia de medição inline e se estabeleceu como especialista em medições precisas de concentração e densidade.

Nossos sistemas estão em uso no mundo todo, inclusive em aplicações críticas.

35+

Anos de experiência

1000+

Sistemas instalados

50+

Países em todo o mundo

ISO 9001

Qualidade certificada


Descreva sua aplicação - entraremos em contato para alinhamento técnico!
Juntos esclarecemos as condições de contorno e possíveis abordagens de solução.

* Campos obrigatórios

Detalhes

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Perguntas frequentes

Como medir ácido fluorídrico inline?

LiquiSonic® mede a concentração de HF com a ajuda da velocidade do som no fluido de processo. Um impulso ultrassônico atrav

Qual sensor pode ser usado para medir a concentração de HF?

Para aplicações com HF, é utilizado o sistema de medição LiquiSonic®. Ele é composto por sensor e controlador e é instalado diretamente na tubulação principal da instalação.

Quão precisa é a medição de concentração com LiquiSonic®?

A precisão da medição é de ± 0,05 wt%. Essa precisão é alcançada por meio da medição direta da velocidade do som, combinada com uma compensação de temperatura integrada que corrige as variações da temperatura do processo.

Quais materiais são resistentes ao ácido fluorídrico?

Os sensores da SensoTech são fabricados, conforme a área de aplicação, com materiais especiais resistentes à corrosão, adaptados à respectiva química do processo. Em todos os componentes em contato com o meio, são utilizados materiais resistentes a HF para garantir estabilidade de longo prazo mesmo com meios agressivos.

Como evitar amostras de laboratório de ácido fluorídrico?

Com a medição inline do LiquiSonic® diretamente na linha de processo, a coleta manual de amostras é totalmente eliminada. Isso reduz não apenas a carga de trabalho, mas sobretudo o risco de segurança para o pessoal, que de outra forma entraria em contato direto com o fluido de processo contendo HF.

A concentração de HF pode ser medida continuamente?

Sim, o LiquiSonic® fornece valores de medição atualizados continuamente várias vezes por segundo, que podem ser exibidos, armazenados e analisados online. Em contraste, as análises de laboratório fornecem apenas registros pontuais momentâneos.

Quão complexa é a colocação em funcionamento do sistema de medição?

Os sensores são integrados diretamente à tubulação principal existente. Isso reduz significativamente o esforço de instalação em comparação com métodos alternativos de análise.

Qual é o esforço de manutenção na medição de ácido fluorídrico?

Graças à sua construção robusta e sem desgaste, os sensores operam praticamente sem manutenção e sem materiais consumíveis. Além disso, todos os componentes em contato com o meio são fabricados com materiais resistentes a HF. Assim, elimina-se a recalibração regular exigida nos métodos de medição convencionais.

É possível integrar o LiquiSonic® em sistemas de controle e segurança existentes?

Sim, o sistema de medição LiquiSonic® disponibiliza os dados de medição em formato digital e pode ser conectado a sistemas de controle superiores. Ultrapassagens ou quedas abaixo dos valores-limite são sinalizadas imediatamente, podendo assim ser integradas aos procedimentos de segurança existentes.

O que acontece em caso de oscilações de concentração no banho de ácido fluorídrico?

As oscilações da concentração de HF alteram as condições de reação no processo e podem comprometer tanto a qualidade do produto quanto a segurança da instalação, por exemplo, devido ao aumento do consumo de ácido fluorídrico, maior corrosão ou risco crescente de vazamentos. Uma medição contínua torna esses desvios imediatamente visíveis e previne riscos.

Como os Acid Runaways podem ser evitados?

A medição inline contínua com LiquiSonic® detecta imediatamente alterações na composição da substância, antes que se tornem críticas. Isso permite agir preventivamente com antecedência e reduzir significativamente o risco de um curso de reação descontrolado ("Acid Runaway").

Como impedir que o ácido fluorídrico entre em circuitos secundários?

Por meio do monitoramento permanente de concentração e fases com LiquiSonic®, desvios e vazamentos podem ser detectados precocemente, antes que o ácido fluorídrico passe despercebido para circuitos subsequentes. Um registro completo de dados online também oferece suporte adicional à rastreabilidade em caso de falha.

Como o HF é monitorado em unidades de alquilação?

Os sensores LiquiSonic® são instalados diretamente na tubulação principal da unidade de alquilação e medem simultaneamente a concentração de ácido fluorídrico, água e óleos solúveis em ácido com uma precisão de ± 0,05 wt%. Isso permite uma qualidade ideal do produto com consumo mínimo de ácido fluorídrico e reduz o risco de Acid Runaways, corrosão e vazamentos.

Como o ácido fluorídrico pode ser controlado em banhos de ataque químico na fabricação de semicondutores?

Na fabricação de semicondutores, o LiquiSonic® monitora a concentração de HF em processos de ataque químico e limpeza, como SC1, SC2 ou BOE/BHF, em tempo real e com compensação de temperatura. Assim, a solução de ataque pode ser dosada com precisão e mantida na faixa ideal de concentração, evitando o ataque excessivo ou insuficiente do wafer.

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