Na fabricação de semicondutores, processos úmidos confiáveis e controlados determinam o rendimento, a qualidade e a reprodutibilidade. As concentrações químicas devem ser mantidas com precisão, especialmente em etapas de processo como SC1, SC2 ou BOE (Buffered Oxide Etch), porque mesmo pequenos desvios podem afetar negativamente os resultados de limpeza e ataque. Com um novo sensor projetado especificamente para o setor de semicondutores, a SensoTech traz agora ao mercado uma solução de ultrassom com a qual essas concentrações podem ser monitoradas diretamente em linha e em tempo real.
O foco está em produtos químicos SC1 e SC2 clássicos e modificados na produção de wafer, especificamente NH₄OH / H₂O₂ / H₂O ou HCl / H₂O₂ / H₂O, não apenas em abordagens padrão, mas também em diluições específicas de processo, janelas de concentração e receitas adaptadas, por exemplo. B. com TMAH. O mesmo se aplica ao BOE (ou BHF) baseado em HF e NH₄F, onde mesmo pequenos desvios podem influenciar a taxa de ataque, a seletividade e a estabilidade do processo. O novo sensor foi projetado precisamente para esses processos úmidos quimicamente sensíveis.
O grupo-alvo é formado principalmente por fabricantes de semicondutores, operadores de bancadas úmidas e sistemas de processo úmido, bem como engenheiros de processos, equipamentos, integração e qualidade que precisam garantir a estabilidade do processo químico na sala limpa. Sua vida cotidiana é caracterizada por janelas de processo estreitas, pressão de alta qualidade, espaço limitado na sala limpa e a necessidade de monitorar composições químicas sem amostragem adicional ou manuseio manual, se possível. Embora já existam soluções de análise em linha para essas tarefas, elas geralmente são baseadas em métodos de medição mais complexos e são correspondentemente exigentes em termos de integração e operação. É exatamente aqui que entra o novo sensor: em vez de depender de análises laboratoriais demoradas ou análises complexas, as informações sobre a respectiva concentração estão disponíveis diretamente no processo.
O sistema agrupa os sinais de medição disponíveis, compensa as influências da temperatura e utiliza-os para calcular as informações de concentração relevantes em tempo real. Isto cria uma arquitetura de medição flexível para diferentes processos úmidos que não complica a integração. O sistema é totalmente isento de manutenção, não requer consumíveis e pode ser integrado em ambientes de automação existentes através de interfaces comuns.
A solução é particularmente relevante onde concentrações químicas estáveis determinam diretamente a qualidade do processo e a disponibilidade do sistema: em banhos SC1 e SC2 ela suporta a adesão confiável a receitas específicas, e em processos BOE ela suporta o gerenciamento preciso de um meio de ataque particularmente sensível. O monitoramento contínuo da concentração fornece uma base de dados confiável para detecção precoce de desvios do processo, avaliação mais direcionada da vida útil do banho e melhor alinhamento da manutenção e do gerenciamento de produtos químicos com o status real do processo.
Para os operadores de plantas de processo úmido, isso significa mais segurança no gerenciamento diário do processo: as curvas de concentração são transparentes, as janelas do processo são mantidas de forma mais confiável e as alterações nas condições do banho são avaliadas mais cedo. Isto suporta a operação reproduzível do sistema, reduz mudanças conservadoras desnecessárias de banho e melhora a garantia de qualidade, a documentação e a otimização contínua do processo.
