그만큼 리퀴소닉® 측정 기술 농도를 감지하여 품질과 생산성을 최적화하기 위해 다양한 공정과 생산 흐름에서 사용됩니다. 측정 기술의 또 다른 적용 분야는 염소 가스 건조의 다운스트림 공정입니다. 염소 가스에는 물 성분이 없어야 합니다. 그렇지 않으면 염소 수화물이 형성되고 수분 함량이 30ppm을 초과하면 부식 거동이 지속적으로 증가합니다.
전도성과 밀도보다 음속의 장점
애플리케이션
염소 가스를 건조시키는 공정은 가스를 흡수탑(스크러버)을 통과시키는 과정을 기반으로 하며, 여기서 염소 가스의 수분 함량은 진한 황산(H2)으로 대체됩니다.2그래서4)은 화학적으로 결합되어 있습니다. 황산은 흡습성, 즉 물에 대한 강한 인력을 갖고 있기 때문에 건조제로 사용됩니다.
습한 염소는 건조 중에 여러 개의 스크러버를 통과하며, 이에 따라 H의 농도가2그래서4 스크러버에서 스크러버로 증가합니다. H가 높을수록2그래서4- 농축될수록 흡수효율(또는 건조효과)이 높아집니다. 이런 점에서 마지막 스크러버에는 고농도의 H가 존재한다.2그래서4 (90 – 96%), 염소 가스의 수분 함량이 30ppm 미만으로 감소합니다. 염소 가스의 수분 함량을 제거함으로써 스크러버의 황산이 희석됩니다. 희석된 H2그래서4 더 낮은 H를 갖는 이전 스크러버에 사용됨2그래서4 농도가 지시됩니다.
이 건조 공정의 효율성은 가스의 생산성과 품질에 큰 영향을 미칩니다. 따라서 황산 농도를 안정적으로 측정하는 것이 특히 중요합니다.
측정 시스템 리퀴소닉® 30 황산 농도 측정과 음속을 이용한 고정밀 온도 측정이 가능합니다. 인라인 농도 분석을 통해 리퀴소닉® 센서 염소 가스 건조 과정은 24시간 내내 분석이 가능하며 황산 농도에 대한 정확한 실시간 분석을 보장합니다. 측정 시스템을 이용하여 각 흡수탑의 황산 농도를 정밀하게 모니터링함으로써 리퀴소닉® 30 원하는 염소 가스 건조 효과가 항상 보장됩니다.
설치
센서는 흡수탑의 DN80 운송 라인에 설치됩니다.
농도 범위 H2그래서4: 70중량%~100중량%
온도 범위 H2그래서4: 20°C ~ 60°C
황산에 사용할 때 액체와 접촉하는 센서 부분은 HC2000으로 만들어졌습니다.
고객 혜택
리퀴소닉®수동 샘플링을 제거하여 실험실 비용을 절감할 수 있습니다.
- 소요시간 : 하루 3시간
- 투자 회수: 약. 7개월
시스템 구성 요소를 부식으로부터 보호하려면 염소 가스의 수분 함량이 30ppm 미만이어야 합니다. 각 스크러버의 황산을 지속적으로 모니터링하여 필요한 염소가스 순도(30ppm H 미만)를 달성합니다.20)을 보장받을 수 있습니다.
염소는 가장 중요한 기본 화학물질 중 하나이며 전 세계적으로 가장 많이 생산되는 화학물질 중 하나입니다. 염소는 염소-알칼리 전기분해를 사용하여 산업 규모로 생산됩니다. 전기분해의 출발물질은 염화나트륨 수용액(NaCl)이다. 수소와 가성소다는 부산물로 생산되며 화학 산업에서도 대량으로 사용됩니다. 염소-알칼리 공정에는 다양한 전해 공정이 사용되며, 격막, 멤브레인 또는 아말가닉 공정이 가장 일반적인 생산 기술입니다.
