불화규산을 인라인으로 측정 – 정밀하게, 유지보수 없이, 실시간으로
LiquiSonic® 공정 중 물속의 헥사플루오로규산(H₂SiF₆) 농도를 연속적으로 측정합니다. 시료 채취 없이, 소모 부품 없이, 시간 지연 없이 가능합니다.
실시간 측정
지연 없는 연속 모니터링
유지보수 불필요
움직이는 부품이나 마모 부품 없음
최고 수준의 정확도
까다로운 조건에서도 정밀한 측정
운영 비용 절감
짧은 투자 회수 기간의 비용 효율적인 솔루션
불화규산(또는 헥사플루오로규산)은 비료 산업에서 대개 인산 생산의 부산물로 발생합니다. 원광 인산염을 황산으로 분해할 때 불화수소산이 생성되며, 이것이 광석 내 규산염과 반응하여 H₂SiF₆를 형성합니다. 원광 인산염의 조성은 본질적으로 변동하기 때문에 생성되는 불화규산 농도 역시 배치마다 달라지거나, 진행 중인 공정에서 연속적으로 변동합니다.
그러나 알루미늄 플루오라이드, 플루오로실리케이트로의 후속 가공이나 수처리용 정량 투입 화학약품으로 사용할 때는 정확히 알려진 농도가 결정적으로 중요합니다. 이는 수율, 후속 공정에서의 반응 거동, 그리고 정량 투입 적용 시 실제로 공급되는 유효 성분의 양을 좌우합니다. 동시에 H₂SiF₆는 강한 부식성과 독성을 지녀, 수동 시료 채취와 적정을 포함하는 기존 분석 방식은 시간이 많이 들 뿐 아니라 작업자에게도 위험합니다. 실험실 결과가 나올 때쯤이면 공정은 이미 상당히 진행된 경우가 많습니다.
바로 이 지점에서 SensoTech의 인라인 농도 측정이 해답을 제시합니다. 배관 센서는 운전 중인 공정에서 직접, 연속적으로, 그리고 작업자와 매체의 접촉 없이 농도를 제공합니다.

LiquiSonic이® 의 불화규산농도를 측정하는 방법
LiquiSonic® Rohrsensor basiert auf dem Messprinzip der Schallgeschwindigkeit. Aus der Schallgeschwindigkeit im Medium sowie der gemessenen Temperatur berechnet das System in Echtzeit die aktuelle H₂SiF₆-Konzentration. 이 Verfahren ist unabhängig von Leitfähigkeit, Farbe oder Trübung der Flüssigkeit und funktioniert auch bei erhöhtem Gasblasenanteil, ein typisches Merkmal von H₂SiF₆-Strömen, zuverlässig.
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구조: 완전 밀폐형, 씰이나 움직이는 부품 없음
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재질: 내식성 사양, 예: 하스텔로이, 탄탈륨 또는 불소수지 코팅(PFA/Halar)
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설치: 별도의 바이패스 없이 배관에 직접 설치
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유지보수: 소모품이 없으며, 일반적으로 유지보수가 필요 없음
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인터페이스: 공정 제어 시스템 연계를 위한 4–20 mA 및 디지털 필드버스(예: Profibus, Modbus)
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방폭: ATEX 및 Ex 인증 사양 제공 가능
지연 대신 실시간
농도 값이 실험실 시료 결과를 기다리지 않고 연속적으로 제공됩니다.
취급 위험 감소
자동화된 측정으로 강한 부식성과 독성을 지닌 산과의 작업자 직접 접촉을 줄입니다.
연속 운전 중에도 유지보수 불필요
부식성 매체 내에 마모 또는 소모 부품이 없어 설비 수명 전반에 걸쳐 유지관리 부담이 낮습니다.
적용 사례
다음과 같은 산업 공정들은 일반적으로 불화규산 농도를 신뢰성 있게 관리해야 하는 과제를 안고 있으며, 각각 측정 기술에 대한 고유한 요구사항이 있습니다. 이들 모두에 공통된 근본 문제는 H₂SiF₆가 대개 조성이 변동하는 원광 인산염에서 부산물로 얻어지기 때문에 공정 내 농도가 지속적으로 변한다는 점입니다. 그러나 실험실 분석은 이러한 변동을 시간차를 두고 뒤따르며, 연속적인 전체 그림이 아니라 특정 시점의 샘플만 제공합니다.
여기에 더해 H₂SiF₆는 강한 부식성과 독성을 지닙니다. 수동 시료 채취에는 보호 장비가 필요하며 작업자에게 실제적인 취급 위험을 수반합니다. 기존 센서는 공격적인 매체에서 비교적 빠르게 부식되고 드리프트가 발생합니다. 특히 정량 투입 적용에서는 각 배치의 변동하는 농도에 맞춰 투입량을 지속적으로 조정해야 하므로 모니터링 부담이 커집니다.
와 함께하는 인라인 음속 측정은 LiquiSonic® 이러한 과제에 대해 공정 내 직접 제공되는 연속적인 실시간 값, 씰이나 움직이는 부품이 없는 완전 밀폐형 센서, 그리고 정확하고 문서화 가능한 정량 투입의 기반이 되는 정밀 농도 값으로 대응합니다.
비료 산업
습식 공정에서 H₂SiF₆를 부산물로 분리 및 농축하는 공정 엔지니어는 수율, 후속 가공, 설비 설계의 기반이 되는 불소 함량에 대한 신뢰할 수 있는 피드백이 필요합니다.
불소 화학
H₂SiF₆를 후속 제품으로 가공하기 위해서는 정확히 규정된 원료 함량이 안정적인 반응 운전과 일관된 제품 품질의 전제 조건입니다.
수처리
H₂SiF₆가 정량 투입 화학약품으로 사용되는 경우, 공급된 배치의 정확한 농도가 올바른 투입량을 결정하며, 이는 곧 규정 준수와 안전성에 직결됩니다.
유통 및 물류
서로 다른 농도 단계의 제품을 충전하고 적재할 때, 빠르고 독립적인 인라인 농도 측정은 오충전 배치와 클레임을 방지하는 데 도움이 됩니다.
농도 측정 분야 35년 이상의 경험
SensoTech는 1990년부터 인라인 측정 기술의 선도 공급업체로서 정밀한 농도 및 밀도 측정 분야의 전문 기업으로 자리매김해 왔습니다.
당사의 시스템은 전 세계는 물론 까다로운 적용 분야에서도 사용
35세 이상
50+
ISO 9001
인증된 품질
자주 묻는 질문
H₂SiF₆는 보통 변동하는 원광석 인산염에서 부산물로 발생하므로, 공정 중 농도가 지속적으로 변합니다. 반면 수동 샘플링과 적정은 특정 시점의 지연된 값만 제공합니다. 실험실 결과가 나올 때쯤이면 공정 상태가 이미 더 진행된 경우가 많아, 편차가 지연되어서야 인식됩니다.
센서는 액체를 통과하는 초음파 신호를 보내고, 정의된 측정 거리에서 그 전달 시간을 측정합니다. 여기서 계산된 음속은 헥사플루오로규산의 농도와 온도에 명확히 의존하므로, 농도를 실시간으로 도출할 수 있습니다. 이 방식은 매질의 전도도, 색상 또는 탁도와 무관하며, 전극이나 광학 창이 필요하지 않습니다.
측정 정확도는 공정 온도 20~30°C에서 물속 헥사플루오로규산 농도 5~25 wt% 범위 내에서 ±0.05 wt%로 보장됩니다.
H₂SiF₆와 같은 강한 부식성과 불화물 함유 매체를 위해 SensoTech는 인라인 관형 센서를 사용합니다. 내식성 플라스틱 사용(기타 특수 재질도 제공 가능)이러한 플라스틱은 불소 화합물에 의해 공격받을 수 있는 기존 금속 합금보다 불화 이온에 훨씬 더 강합니다. 움직이는 부품이 없는 완전 밀폐형, 씰 프리 구조와 결합되어 센서는 공격적인 매체와의 지속적인 접촉에 맞게 설계되었습니다.
예, LiquiSonic® 는 액체 내 기포 함량이 높은 조건에서도 사용할 수 있도록 설계되었으며, 예를 들어 인산 생산 과정에서 H₂SiF₆를 스트리핑할 때 발생할 수 있는 일반적인 공정 변동을 허용합니다.
아니요, 이 측정 시스템은 완전히 유지보수가 필요 없습니다. 공격적인 매체에 의해 손상될 수 있는 기계적 마모 부품, 씰 또는 광학 창이 없습니다. 정기적인 재보정도 필요하지 않으며, 센서는 수년간 안정적으로 유지됩니다.
예, 관형 센서는 공정 라인에 직접 설치되며 별도의 바이패스가 필요하지 않습니다. 이를 통해 기존 설비에 쉽게 통합할 수 있고 추가 연결 지점을 줄일 수 있습니다.
이 LiquiSonic® 측정 시스템은 기존의 4–20mA 출력뿐만 아니라 Profibus DP, Modbus, Ethernet과 같은 일반적인 디지털 인터페이스도 제공하므로, 기존 자동화 및 공정 제어 시스템에 문제없이 통합할 수 있습니다.
예, SensoTech 센서는 ATEX 및 Ex 인증 버전으로도 제공되므로 폭발 위험이 있는 설비 구역에서도 사용할 수 있습니다.
이는 특히 인산 생산을 하는 비료 산업, 불화알루미늄 또는 플루오르실리케이트와 같은 불소 화학제품 제조업체, 음용수 불소화 설비 운영업체, 그리고 H₂SiF₆의 충전 및 운송 시 품질 관리에 중요합니다.
예, 불산(HF)은 화학적으로 불규산과 밀접하게 관련되어 있으며, 원광석 인산염 분해나 에칭 배스 기술과 같은 유사한 공정 환경에서 발생합니다. 이 LiquiSonic® 측정 시스템은 동일한 내식성 및 유지보수 프리 원리를 사용하여 불산의 인라인 농도 측정에도 적용할 수 있습니다.





