황산 센서
측정 정확도: 0.03m%
측정 범위: 80 - 100m% H2SO4
청소가 필요하지 않습니다.
플러그 앤 플레이 솔루션
황산은 가장 중요한 기본 화학물질 중 하나입니다. 황산의 특성은 다양한 제품 생산에 유용하기 때문에 지속적인 수요가 지속적으로 증가하고 있습니다.
황산과 발연 황산의 농도를 측정하는 중요한 응용 분야의 몇 가지 예 리퀴소닉® 측정 시스템:
- 황산 및 발연황 생산
- 화학 및 석유화학 분야의 합성 가스 건조
- 철강 산업의 에칭 및 산 세척제
- 광산에서의 광석 추출
- 황산비료의 출발물질
- 각종 화학제품의 기초화학물질
두 가지 주요 생산 공정은 고농도 황산과 올레움을 생산하기 위해 오산화바나듐(V2O5) 촉매를 제공하는 공정인 이중 접촉 이중 흡수 공정(DCDA)과 다양한 공정 가스에서 황을 제거하는 습식 황산 공정(WSA)입니다. 그만큼 리퀴소닉® 측정 시스템 위에서 언급한 두 프로세스의 다양한 프로세스 단계에 매우 쉽게 통합될 수 있습니다. 빠르고 견고한 센서 기술은 시스템 활용도, 공정 신뢰성 및 제품 수율을 향상시킵니다.
이중 접촉 프로세스
이중 접촉 공정(DCDA)은 다양한 반응에서 이산화황을 합성하는 다양한 출발 물질을 사용합니다. 처음에는 SO 흐름2- 가스를 함유한 건조탑으로 들어가 물이 제거됩니다. 그런 다음 가스는 변환기에서 촉매인 SO를 만납니다.2 그래서3 산화.
2 그래서2 + 오2 → 2 그래서3
다음은 SO입니다.3 중간 흡수체로 들어갑니다. 수용액에서 삼산화황의 흡수가 가능하더라도 이러한 높은 발열 반응은 시스템을 공격하고 파괴할 수 있습니다. 그래서3 98% 황산과 반응하여 고농축 산을 형성합니다.
그래서3 + H2오 → H2그래서4
환경오염을 줄이기 위해 SO가 흐른다.2-중간 흡수기의 배기 가스를 다시 변환기로 포함합니다. 그곳에서는 최종 흡수기에서 황산으로 가공하기 위해 삼산화황을 준비하는 데 사용됩니다. 이중 접촉 공정의 중간 생성물은 SO가 풍부한 100% 황산으로 구성된 올레움입니다.3,로 구성됩니다.
가능한 응용 프로그램은 다음과 같습니다:
- 고농도 황산 생산
- 카프로락탐 및 나일론 생산
- 질산과 결합된 질산화 공정
올레움은 SO를 흡수하여 형성됩니다.3 올레움 흡수탑에서. 그만큼 리퀴소닉® 센서 20~30m%~50~60m% 농도의 올레움에서 탁월한 공정 제어를 제공합니다. 센서는 흡수탑의 유입 및 회수 라인과 희석 장치 뒤에 이상적으로 설치됩니다.
연락 절차
접촉 공정(WSA)은 원래 다양한 산업 제조 공정의 배기 가스에서 황 성분을 제거하기 위해 개발되었습니다. 이중 접촉 공정과 달리 수증기는 생성된 SO에 남아 있습니다.2. 특수 바나듐 함유 촉매 덕분에 가스는 SO의 촉매 산화에 부정적인 영향을 미치지 않습니다.2 그래서3 변환기에서.
마지막으로 접촉 과정에서 삼산화황은 응축기로 들어가며, 여기서 수증기가 응축되고 SO2가 발생합니다.3 H에서2그래서4 변환되었습니다. 98m%의 농도가 일반적입니다. 라인에서 직접 농도를 측정하기 위해서는 설치가 필요합니다. 리퀴소닉®-센서 응축기 및 희석 장치의 끝 부분에 필요합니다.
