半導体製造では、信頼性が高く制御されたウェットプロセスが歩留まり、品質、再現性を左右します。特に SC1、SC2、BOE（Buffered Oxide Etch）などの工程では、わずかな逸脱でも洗浄やエッチング結果に悪影響を及ぼす可能性があるため、化学濃度を正確に維持する必要があります。SensoTech は今回、半導体分野向けに特別設計された新しいセンサーにより、これらの濃度をインラインかつリアルタイムで直接監視できる超音波ソリューションを市場投入しました。

対象となるのは、ウェハ製造における従来型および改良型の SC1・SC2 薬液、具体的には NH₄OH / H₂O₂ / H₂O および HCl / H₂O₂ / H₂O であり、標準組成だけでなく、プロセス固有の希釈、濃度範囲、TMAH などを用いた調整レシピにも対応します。同様に、HF と NH₄F をベースとする BOE（または BHF）にも適しており、そこではわずかな逸脱でもエッチング速度、選択性、プロセス安定性に影響を与える可能性があります。新しいセンサーは、まさにこのような化学的に繊細なウェットプロセス向けに設計されています。

主な対象ユーザーは、半導体メーカー、ウェットベンチやウェットプロセス装置の運用者、そしてクリーンルーム内で化学プロセスの安定性を確保しなければならないプロセス、装置、統合、品質エンジニアです。彼らの日常は、厳しいプロセスウィンドウ、高い品質要求、クリーンルーム内の限られたスペース、そして追加のサンプリングや手作業をできるだけ行わずに化学組成を監視したいというニーズによって特徴づけられています。こうした用途向けのインライン分析ソリューションはすでに存在しますが、多くはより複雑な測定手法に基づいており、その分、統合や運用が困難です。新しいセンサーはまさにここに着目しています。時間差のあるラボ分析や複雑な分析手法に頼る代わりに、各濃度に関する情報をプロセス内で即座に取得できます。